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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:MicronX鍍層測(cè)厚儀鍍膜測(cè)厚儀材料分析儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):鍍層測(cè)厚儀
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簡(jiǎn)單介紹:
MicronX鍍層測(cè)厚儀鍍膜測(cè)厚儀材料分析儀美國(guó)賽默飛世爾ThermoFisher(熱電)公司MicronX 利用X-射線熒光的非接觸式的無(wú)損測(cè)試技術(shù)**地用于微電子學(xué)、光通訊和數(shù)據(jù)貯存工業(yè)的金屬薄膜測(cè)量。 可以同時(shí)測(cè)量多至6層的金屬鍍層的厚度和成分,測(cè)量厚度可以從A(埃)至μ(微米),他也能測(cè)量多至 20個(gè)元素的塊狀合金成分。 其光束和探測(cè)器的巧妙結(jié)合加上**的數(shù)字處理技術(shù)使得MicronX能*
詳情介紹:
MicronX鍍層測(cè)厚儀鍍膜測(cè)厚儀材料分析儀

美國(guó)賽默飛世爾ThermoFisher(熱電)公司MicronX 利用X-射線熒光的非接觸式的無(wú)損測(cè)試技術(shù)**地用于微電子學(xué)、光通訊和數(shù)據(jù)貯存工業(yè)的金屬薄膜測(cè)量。 可以同時(shí)測(cè)量多至6層的金屬鍍層的厚度和成分,測(cè)量厚度可以從A(埃)至μ(微米),他也能測(cè)量多至 20個(gè)元素的塊狀合金成分。 其光束和探測(cè)器的巧妙結(jié)合加上**的數(shù)字處理技術(shù)使得MicronX能*佳地解決你的應(yīng)用。結(jié)果是ASIM(應(yīng)用專用儀器測(cè)量)在準(zhǔn)確度、精密度、和重現(xiàn)性上具有****的性能。

 

應(yīng) 用: 集成電路制造、微電子器件、光/微波通信器件、磁記錄器件等.
用于集成電路 凸點(diǎn)金屬化層(凸點(diǎn)下底部金屬化UBM技術(shù))、柔性PCB板、框架、晶圓、激光器、微波器件、薄膜磁頭等鍍膜(鍍層)疊層的測(cè)厚及材料分析


 

型 號(hào):
VXR: 真空測(cè)量環(huán)境,增加靈敏度和測(cè)定范圍
GXR: 斑點(diǎn)小,樣品量大
MXR: 高性能,精密,分辨

ZXR/LXR:用于小樣品的經(jīng)濟(jì)型

 

【MicronX 主要規(guī)格】

* 光學(xué)準(zhǔn)直

* 多種硅片定位選購(gòu)件

* 精密樣品定位

* 5 級(jí)光學(xué)變焦

* 激光自動(dòng)聚焦

* 圖案識(shí)別

* 多種探測(cè)器選擇 Si(Li), SDD, PIN, PC

* 能在非真空環(huán)境下分析至 1.5keV . 這是Thermo ****的!

 

【光學(xué)聚焦元件的優(yōu)點(diǎn)】

* 小光束可測(cè)量小至 20 微米的面積

* 測(cè)量時(shí)間更短 (比同樣大小的機(jī)械準(zhǔn)直快100 倍)

* 精密度比類似大小的機(jī)械準(zhǔn)直好10 倍

* 各種應(yīng)用的精密度相同

* 減少校正曲線數(shù)量,將建立曲線和校正曲線維護(hù)減到*少

 

【應(yīng)用舉例】

廣泛應(yīng)用于集成電路 UBM凸點(diǎn) 框架 晶圓 激光器 微波器件 薄膜磁頭 柔性印刷電路板等多層鍍層厚度及材料分析
 

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