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產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
HCT ITC 吸入毒性暴露系統(tǒng)
HCT ITC 吸入毒性暴露系統(tǒng)由美盛科技中國公司供應(yīng)
系統(tǒng)包括:納米顆粒物產(chǎn)生/監(jiān)測系統(tǒng)(ISO 10801,10808),自動(dòng)遠(yuǎn)程控制/監(jiān)測系統(tǒng),自動(dòng)清洗裝置(WITC),**檢測物質(zhì)分散系統(tǒng);系統(tǒng)都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。
詳情介紹:
HCT ITC 吸入毒性暴露系統(tǒng)
HCT ITC 吸入毒性暴露系統(tǒng)由美盛科技中國公司供應(yīng)
系統(tǒng)包括:納米顆粒物產(chǎn)生/監(jiān)測系統(tǒng)(ISO 10801,10808),自動(dòng)遠(yuǎn)程控制/監(jiān)測系統(tǒng),自動(dòng)清洗裝置(WITC),**檢測物質(zhì)分散系統(tǒng);系統(tǒng)都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。


產(chǎn)品描述·技術(shù)參數(shù):
環(huán)境條件 溫度 0 ~ 50℃
濕度 0 ~ 100%RH
檢測粒子 NIST可追溯性粒子
粒子發(fā)生器 范圍 5nm ~ 100μm
濃度 0 ~ 1012P/cm3(<300mg/cm3)
產(chǎn)生粒子的標(biāo)準(zhǔn)差 >1.05
類型 NaCl,KCl,Au,Ag,Pb,Mn,SiO2,TiO2,F(xiàn)e2O3,煙灰,CNT(碳納米),power等
可產(chǎn)生單分散或多分散氣溶膠
氣溶膠旋風(fēng)分離器 5μm
符合ISO 10801要求
粒子監(jiān)測系統(tǒng) 范圍 5 ~ 1 000nm(2.5nm可選)
*大濃度 108P/cm3
掃描時(shí)間 90s(可更改)
采樣流速 0 ~ 1.5lpm
工作壓力 0.75 ~ 1.05 atm
數(shù)據(jù)采集 PC,320×240分辨率觸摸LCD屏
掃描納米粒徑譜儀(SNPS系統(tǒng))
OPC(光學(xué)計(jì)數(shù)器) 0.3 ~ 10μm
符合ISO 10808要求
濃度控制稀釋器 稀釋比例 1:2 ~ 1:100
暴露流量計(jì) 0 ~ 50L/min,質(zhì)量流量控制器
排氣流量 0 ~ 500L/min,排風(fēng)扇和自動(dòng)控制閥控制
干凈空氣供應(yīng) HEPA過濾系統(tǒng),除塵效率 0.3μm時(shí)可達(dá)99.97%
控制和監(jiān)測系統(tǒng) 環(huán)境監(jiān)測 溫度、濕度、壓力、空氣流量計(jì)、O2
濃度和粒徑分布
暴露條件狀況
互相監(jiān)測,水沖洗監(jiān)測等
粒子產(chǎn)生、稀釋比例、流量控制
質(zhì)量流量控制器
補(bǔ)充空氣閥和暴露空氣閥控制
HCT ITC 吸入毒性暴露系統(tǒng)由美盛科技中國公司供應(yīng)
系統(tǒng)包括:納米顆粒物產(chǎn)生/監(jiān)測系統(tǒng)(ISO 10801,10808),自動(dòng)遠(yuǎn)程控制/監(jiān)測系統(tǒng),自動(dòng)清洗裝置(WITC),**檢測物質(zhì)分散系統(tǒng);系統(tǒng)都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。

ITC系統(tǒng)配置
系統(tǒng)包括:納米顆粒物產(chǎn)生/監(jiān)測系統(tǒng)(ISO 10801,10808),自動(dòng)遠(yuǎn)程控制/監(jiān)測系統(tǒng),自動(dòng)清洗裝置(WITC),**檢測物質(zhì)分散系統(tǒng);系統(tǒng)都符合GLP、REACH、GHS和OECD要求。

ITC吸入毒性暴露系統(tǒng)有整體暴露系統(tǒng)(WITC)和鼻部暴露(NITC)系統(tǒng)兩種暴露配置方式。
WITC(整體暴露系統(tǒng))

NITC(鼻部暴露系統(tǒng))


組件介紹
顆粒物發(fā)生器
有旋風(fēng)和各式各樣的顆粒物發(fā)生器,可選擇所需的粒徑范圍(nm ~ μm)并輸送到暴露室內(nèi)。有金屬和液體氣溶膠發(fā)生器等多種類型。
染毒室
環(huán)境傳感器
溫度:工作范圍 -20℃ ~ 70℃,精度 ±0.5℃
濕度:工作范圍 10 ~ 90 %,精度 ±3 %
O2傳感器:工作范圍 0 ~ 25 %,精度 ±0.5 %
CO2:工作范圍 0 ~ 5000ppm,精度 ±0.5 %
特殊傳感器:CO、NO、VOCs等可選
監(jiān)測程序
HCT吸入系統(tǒng)染毒室控制軟件(ITC管理器),可控制單個(gè)或多個(gè)染毒室。
模塊式控制箱 – 易安裝和布置
實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)獲取和顯示
用戶自主選擇 – 參數(shù)設(shè)置(數(shù)據(jù)采集、檢測參數(shù)值等)
ADS(氣溶膠稀釋系統(tǒng))
稀釋因子:~ 100(可依客戶需求調(diào)節(jié))
稀釋因子精度:通常±10%,*大值的±15%
數(shù)據(jù)傳輸:RS-422
電源:100 ~ 240V,60Hz

反應(yīng)氣體裝置

沖洗裝置

排氣裝置

產(chǎn)品描述·技術(shù)參數(shù):
環(huán)境條件 溫度 0 ~ 50℃
濕度 0 ~ 100%RH
檢測粒子 NIST可追溯性粒子
粒子發(fā)生器 范圍 5nm ~ 100μm
濃度 0 ~ 1012P/cm3(<300mg/cm3)
產(chǎn)生粒子的標(biāo)準(zhǔn)差 >1.05
類型 NaCl,KCl,Au,Ag,Pb,Mn,SiO2,TiO2,F(xiàn)e2O3,煙灰,CNT(碳納米),power等
可產(chǎn)生單分散或多分散氣溶膠
氣溶膠旋風(fēng)分離器 5μm
符合ISO 10801要求
粒子監(jiān)測系統(tǒng) 范圍 5 ~ 1 000nm(2.5nm可選)
*大濃度 108P/cm3
掃描時(shí)間 90s(可更改)
采樣流速 0 ~ 1.5lpm
工作壓力 0.75 ~ 1.05 atm
數(shù)據(jù)采集 PC,320×240分辨率觸摸LCD屏
掃描納米粒徑譜儀(SNPS系統(tǒng))
OPC(光學(xué)計(jì)數(shù)器) 0.3 ~ 10μm
符合ISO 10808要求
濃度控制稀釋器 稀釋比例 1:2 ~ 1:100
暴露流量計(jì) 0 ~ 50L/min,質(zhì)量流量控制器
排氣流量 0 ~ 500L/min,排風(fēng)扇和自動(dòng)控制閥控制
干凈空氣供應(yīng) HEPA過濾系統(tǒng),除塵效率 0.3μm時(shí)可達(dá)99.97%
控制和監(jiān)測系統(tǒng) 環(huán)境監(jiān)測 溫度、濕度、壓力、空氣流量計(jì)、O2
濃度和粒徑分布
暴露條件狀況
互相監(jiān)測,水沖洗監(jiān)測等
粒子產(chǎn)生、稀釋比例、流量控制
質(zhì)量流量控制器
補(bǔ)充空氣閥和暴露空氣閥控制